苹果屏下Face ID专利获批，iPhone 14无缘

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　　ITBEAR科技资讯4月11日消息，长期以来，外界一直期望苹果能尽快实现屏下Face ID等技术，将刘海完全隐藏在屏幕底部，达到完全无开孔的效果。再加上iPhone四边等宽的设计，视觉效果应该非常好。

　　据报道，美国专利商标局最近于4月5日正式授予苹果一项新专利，专利显示它可以在屏幕下方隐藏Face ID组件，屏幕仍然可以正常显示，面部识别也可以正常工作。

　　不过，该专利刚刚获得批准，这说明iPhone 14完全不可能携带该技术。iPhone 15系列的一些早期工作可能已经开始，有可能使用该技术。但iPhone 15的开发周期内可能无法调试改进，考虑到目前只获得专利批准，该技术尚未形成，所以也不太可能搭载该技术。

　　从现阶段的情况来看，iPhone 16系列将是最有可能推出该技术的机型，可以实现完全无开孔、无刘海，这也符合之前分析师罗斯-杨和郭明錤的分析吻合。

　　至于iPhone 14系列，结合目前消息，已经开始试生产，标准版本的两款机型将继续使用小刘海，而Pro版本将升级为感叹号打孔方案。

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